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    多晶硅超純水設備

    • 型號:單晶硅超純水設備
      電壓:220V
      特點:可生產(chǎn)三級水
      應用:多晶硅生產(chǎn)超純水
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    多晶硅超純水設備

     

    硅片是現(xiàn)代半導體行業(yè)不可或缺的基礎材料,而在硅片的生產(chǎn)過程中會有許多的污染物質干擾產(chǎn)品的最終質量,所以半導體器件的生產(chǎn)硅片需要進行嚴格的清洗,通過清洗去除掉表面的污染雜質,包括有機物和無機物等,否則微量元素的污染會導致半導體器件失效。

     


    多晶硅是由許多硅原子及許多小的晶粒組合而成的硅晶體。由于各個晶粒的排列方向彼此不同,其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深銀灰色,不透明,具有金屬光澤,性脆,常溫下不活潑。


    多晶硅是用金屬硅(工業(yè)硅)經(jīng)化學反應、提純,再還原得到的高純度材料(也叫還原硅)。目前世界上多晶硅生產(chǎn)的方法主要有改良西門子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2熱分解法、SiCl4法等多晶硅生產(chǎn)工藝。


    對于消毒系統(tǒng)和清洗系統(tǒng)而言有四種類型:低pH值型、高pH值型、高溫消毒型以及低濃度氧化消毒清洗型。單獨的消毒清洗程序只針對淡水、濃水以及給水管線而言,消毒清洗的循環(huán)過程可以獨立完成,獨立的循環(huán)程序也可同時進行,從而減少總的使用時間。由于極水循環(huán)的低清洗流速,大多數(shù)情況下清洗過程必須同時與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時進行。清洗水箱及水泵是必備的(CIP系統(tǒng))。總共需要五條清洗流水線:兩個進口(淡水進口和濃水進口)以及三個出口(淡水出口,給水出口和濃水排放)。


    工藝流程:


    原水箱→原水提升泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透→級間水箱→二級高壓泵→中間水箱→EDI提升泵→微孔過濾器→EDI系統(tǒng)→EDI水箱→拋光混床→用水點


    設備特點:


    1.能耗低,水資源利用率高,設備運行成本得到了有效控制。
    2.設備全自動化微電腦控制,當運行過程出現(xiàn)故障時,會及時停止,且具有自動保護功能。
    3.膜組件部分是采用國際進口材料,表現(xiàn)出更高的溶質分離率和透過速率。
    4.設備整體化程度高,易于擴展,可以增加膜的過濾數(shù)量從而增加單位時間內的處理量。
    5.系統(tǒng)整體無易損部件,不會存在大量需要維修的情況,保障設備的長期有效運行。
    6.結構搭配合理,減少設備使用的占地面積。
    7.設備可連續(xù)生產(chǎn),卡扣式安裝方式,維修維護快速便捷。
    8.出水水質穩(wěn)定,設備的實用性設計強,便于日常使用。
    9.不需要處理廢酸廢堿,也不需要酸堿再生,極大程度的節(jié)約日常運行成本。

     

    執(zhí)行標準:


    GB6682-2000中國國家實驗室用水GB6682-2000
    GB/T 11446.7——1997 電子級水中痕量氯離子、硝酸根離子、磷酸根離子、硫酸根離子的離子色譜測試方法
    GB/T 11446.5——1997 電子級水中痕量金屬的原子吸收分光光度測試方法
    GB/T 11446.3——1997 電子級水測試方法通則
    GB/T 11446.6——1997 電子級水中二氧化硅的分光光度測試方法
    GB/T 11446.4——l997 電子級水電阻率的測試方法
    GB/T 11446.9——1997 電子級水中微粒的儀器測試方法
    GB/T 11446.8——1997 電子級水中總有機碳的測試方法
    JBT 7621-1994 電力半導體器件工藝用高純水
    ASTM D5127-2007美國電子和半導體水質標準
    GBT11446.1-2013電子級超純水中國國家標準

    公司總部

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